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学生党如何自W,14没有工具怎么自w到高c 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日(rì)消息,国(g学生党如何自W,14没有工具怎么自w到高cuó)家知识产权局局长申(shēn)长雨在新闻发布(bù)会上(shàng)表示,将(jiāng)统筹推进各(gè)类知识产(chǎn)权法律法(fǎ)规和制度规则的制(zhì)修订工作。其中,修改完善(shàn)集(jí)成电路布(bù)图(tú)设计保护条例(lì),适(shì)应大(dà)规模集成电路发展需(xū)要,助力芯片(piàn)产业做大做强,服务数字经济更好发展(zhǎn)。

  加强大数据、人工智能、基(jī)因技术等新领域新业(yè)态(tài)知识产权规则研究,助力相(xiāng)关领(lǐng)域创(chuàng)新(xīn)发展。同时,积极参与知识(shí)产权国际规则制定,更好(hǎo)对接高标准国际经贸规则,助力高水平对外开(kāi)放。

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